ASML出货新光刻机NXT2000i:用于7nm/5nm DUV工艺

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据外媒报道,光刻机霸主ASML(阿斯麦)愿意以前刚开始英文出货新品Twinscan NXT:10000i DUV(NXT:10000i双工件台深紫外光刻机),可用于7nm和5nm节点

NXT:10000i将是NXE:31000B EUV光刻机的有效补充,毕竟台积电/GF的第一代7nm也有基于DUV工艺。

同时,NXT:10000i也成为了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的产品,达到了和31000B一样的1.9nm(5nm要求大慨2.4nm,7nm要求大慨3.5nm)。

ASML将于本季度末以前刚开始英文量产Twinscan NXT:10000i,价格未披露。目前,NXE:31000B EUV光刻机的报价是1.2亿美元一台,传统的ArF沉浸式光刻机(14nm节点)报价是71000万美元之间, NXT:10000i肯定是在这两者之间了。

最后简单介绍下ASML公司,其脱胎于荷兰飞利浦的光刻研发小组,2017年全球光刻机市场占比7成,是绝对的一哥,底下跟着的是佳能、尼康和上海微电子。

集成电路在制作过程中经历材料制备、掩膜、光刻、刻蚀、清洗、掺杂、机械研磨等多个工序,其中以光刻工序最为关键,它是整个集成电路产业制造工艺先系统程序运行运行度的重要指标,即在芯片制造过程中的掩膜图形到硅衬底图形之间的转移。(上刻出晶体管器件的形态和晶体管之间的连接通路。)



图为NXE:31000 EUV光刻机

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